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半導(dǎo)體濕制程設(shè)備

晶圓清洗設(shè)備

產(chǎn)品特點(diǎn):

該系統(tǒng)為先進(jìn)的清洗(Clean)和蝕刻(Etching)制程提供了卓越的性能和可擴(kuò)展性,具有高吞吐量和更小的占地面積。

高精度自動(dòng)配液混酸。

快速到達(dá)制程溫度,且精準(zhǔn)溫度控制。

全自動(dòng)系列客制化機(jī)種。